데이터센터 배출열로 온천탕을 만드는 기술은 가능하지만, 온도 부족과 입지·보안 등 조건 차이 때문에 사업성은 낮다는 지적이 나왔다. 데이터센터의 일반적인 배출 열도는 30~40도로 일본에서 선호하는 온욕용 물보다 낮아 추가 가열 설비가 필요하며 이로 인해 비용 증가와 배관 설치 문제가 발생한다. 또한, 사람 모이기 쉬운 입지와 통신·수전 등 인프라 요구 조건이 상반되어 두 시설을 붙여야 하는 등 사업화 장벽이 크다고 설명했다.
오픈AI는 성능을 개선한 신형 모델 아스트라 (GPT-6) 를 출시했는데, 악시오스 등 외부 연구자들은 이를 감시하기 어려워져 AI 안전에 대한 우려를 제기했다. 오픈AI는 추론 과정을 글로 풀어내는 빈도를 낮췄다고 인정했으나 이는 의도된 사항이 아니라고 부인했으며 시드니 본 아크스는 모델 사고 과정의 투명성 부족으로 인해 통제 밖에서 문제가 발생할 수 있다고 경고했다.
세종시와 세종교육청은 교육부 '교육혁신 선도지역' 공모사업에 공동 대응하기 위해 업무 협약을 체결했다. 양 기관은 지역 내 교육격차 완화 및 대학·산업 연계 교육을 필수 추진과제로 하며, 고려대 등 지역대학과 공공기관이 참여하는 협력체도 구성할 계획이다.
디에스티인터내셔날과 미니소프트는 AI·AX 솔루션 사업화를 위한 업무협약을 체결했다고 8일 밝혔다. 디에스티인터내셔날은 생체인증 및 AI 영상분석 기술과 시스템 통합 경험을, 미니소프트는 문서 지능화 및 AI 에이전트 기술을 결합해 고객 맞춤형 플랫폼을 개발하기로 합의했다. 양사는 이 협력을 통해 보안·인프라와 AI 기능이 유기적으로 결합된 통합 솔루션으로 시장 경쟁력을 확보할 계획이며, 공동 TF팀 발족을 추진하고 있다.
서울주택도시공사 (SH) 는 강서구 마곡일반산업단지에 복합용지 33필지를 공급한다고 밝혔다. 이번 용지는 연구시설 건축 연면적의 50% 이상 확보를 조건으로 하며, 이를 통해 '피지컬 AI' 산업 시험대 조성과 전략산업 기업 유치를 목표로 한다.
문화체육관광부는 태국 왕립경찰 중앙수사국과 저작권 보호 협력에 관한 업무협약을 체결하고, 국제협력체계를 공고히 하며 법 집행 작전 및 정보 공유 활동을 추진한다. 문체부와 경찰청 등 기관은 2015 년부터 불법 IPTV 운영 조직을 검거하여 말레이시아인 2 명과 태국인 1 명의 범죄 혐의를 입증해 현지 법원의 심판을 받게 했다.
제넨셀 창업자 강모 경희대 교수가 KH그룹 계열사 필룩스 사외이사로 선임된 후, 임원 겸직 및 지분 투자를 통해 인적·사업 관계를 이어왔다. 김승원 후보자의 임상시험 승인 요청을 전달한 브로커는 강 교수의 부탁으로 심사를 신속히 처리해달라는 연락을 했으며, 식약처는 그로부터 일주일 뒤 제넨셀의 임상 2·3상 시험계획 승인을 했다. 이후 강 교수는 허위 자료 제출 혐의로 재판에 넘겨져 징역 3년에 집행유예 5년을 선고받았다.
광주교통공사는 한국승강기안전공단과 협업해 인공지능 기반 승강기 안전관리시스템을 도시철도 1 호선 상무역 엘리베이터 등에 시범 도입했다고 8 일 밝혔다.시스템은 승강기 내부 CCTV 영상을 AI 가 실시간 분석하여 이용객 쓰러짐 등 이상 상황을 감지하고 관리자에게 즉시 알리는 기능을 한다. 기존에는 순회 점검이나 승객 신고 등을 통해 이상 상황을 확인했지만, AI 시스템 도입으로 사고 발생 시 신속한 초동 대응이 가능하다.
국가데이터처는 8일 오후 제4차 국가 데이터 특별분과 회의를 개최해 AI 친화적 통계 메타데이터 구축 추진 전략을 논의했다. 올해 5 종 통계를 시범 구축 중이며, 내년에는 300 종이 2028 년까지 1 천 77 종으로 확대할 계획이다.
한국섬유개발연구원은 8일 육군 군수사령부와 국방 폐피복류 리사이클 및 첨단소재 공동 연구 추진을 위한 업무협약(MOU)을 체결했다. 두 기관은 시험·연구지원, 기술정보 제공, 프로그램 공동 기획 등을 통해 실제 군사 작전 환경에 적용 가능한 소재와 기술을 개발할 계획이다.
삼성전자가 프랑스 AI 스타트업 미스트랄의 시리즈 D 투자 라운드에서 주도적으로 총 30 억 유로를 유치했다. 이번 투자는 유럽 비상장 기술기업 중 역대 최대 규모이며, 삼성전자는 스웨덴 투자사 EQT 와 기존 투자자 PSG 에쿼티 가 공동 참여자로 투입됐다.
삼성전자가 ASML이 주도하는 '대형 마스크 컨소시엄'에 참여해 차세대 12인치 포토마스크 공동 개발을 추진한다고 밝혔다. 삼성전자는 오는 2028년 업계 최초로 하이 NA(EUV) 장비의 D램 제조 도입을 계획하며, 기존 EUV 장비가 한 번에 최대 13.5nm 선폭으로 그릴 수 있다면 하이 NA EUV는 더 얇은 회로를 구현하고 공정 수를 절반으로 줄일 수 있다. 삼성전자는 이미 2025년 3월에 하이 NA EUV 설비를 국내 최초로 반입하는 등 ASML과 긴밀하게 협력 중이다.