국내 연구진이 산소 성분을 이용해 이황화몰리브덴 결정핵 생성 위치를 정밀 제어하는 기술을 개발해 차세대 적층형 AI 반도체 구현 기반을 마련했다. 과학기술정보통신부는 강기범 KAIST 교수, 김병조 UNIST 교수, 김우희 한양대 교수 및 티디에스이노베이션 등이 참여한 공동연구팀의 연구결과가 8일 최고 권위 국제학술지 '네이처'에 실렸다고 밝혔다. 원자층 수준으로 얇은 2차원 반도체 소재는 기존 연산회로 위에 쌓아 AI 칩 성능을 극대화하고 전력 소모를 줄이는 것으로 기대된다.
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